标题：ASML：从漏雨棚屋到全球光刻机领导者
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在当今的半导体产业中，ASML（Advanced Semiconductor Material Lithography，即先进半导体材料光刻）无疑是光刻机领域的全球霸主。众多芯片制造巨头，如台积电、英特尔、三星，在打造最前沿的半导体产品时，都对其设备给予了极高的依赖。然而，这家荷兰巨头的诞生故事，却带着一份低调的传奇色彩。
据公司传说，ASML的起点是一间“漏雨的棚屋”。这一切的故事，都要从1984年说起。
初创期：从漏雨棚屋到专业园区
ASML最初是由电子巨头飞利浦（Philips）和先进半导体材料国际公司（ASMI）共同创立的，旨在开拓光刻系统这一新兴市场。同年，ASML在荷兰埃因霍温的飞利浦旧园区Strijp-T设立了公司，其首个基地便是那座名符其实的“漏雨棚屋”。这座单层预制建筑与飞利浦TQ大楼的一楼相连，而TQ大楼正是飞利浦“工业电子”部门的所在地。当时，由于ASML的第一套系统PAS 2000光刻机的液压油泵噪音过大，团队不得不将油泵放置在小屋外的集装箱中，以保持工作环境的正常。
发展壮大：搬迁新址，技术革新
幸运的是，ASML的业务迅速崛起。1985年，公司搬入了专门建造的办公和工厂大楼。次年，改进后的PAS 2500光刻机问世，并成为后续许多型号的基础。与此同时，ASML与镜头制造商卡尔·蔡司（Carl Zeiss）建立了长期合作关系。
技术突破：引领行业，上市成功
进入20世纪90年代，ASML推出了革命性的“突破性平台”PAS 5500光刻机，凭借其在生产力和分辨率上的行业领先，ASML成功在阿姆斯特丹和纽约证券交易所上市。
2001年，ASML推出了革命性的双工件台技术的Twinscan光刻机。2010年，该系列光刻机进一步升级，推出了采用极紫外（EUV）技术的Twinscan NXE:3100。近年来，ASML凭借其EXE平台和高数值孔径（High NA）技术，再次刷新了行业纪录。
现状：收入近310亿美元，全球布局
根据ASML最近发布的年度报告，公司去年的收入接近310亿美元（约合2248.48亿元人民币），在全球拥有超过60个运营地点，并雇佣了超过4.4万名员工。
ASML的崛起，不仅是一个从漏雨棚屋到全球领导者的传奇故事，更是技术创新和不懈努力的见证。如今，它已成为半导体产业不可或缺的一部分，引领着行业不断向前发展。
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