《东方晶源DR-SEM r655:技术革新引领国内检测设备迈向新高峰》

admin112025-03-27 14:40:44

东方晶源:电子束检测领域的领军者,助力中国半导体产业腾飞

在电子束检测领域,东方晶源以其深厚的积累和不懈的努力,成为了行业的佼佼者。多年来,公司专注于研发和生产先进的电子束缺陷检测设备EBI和关键尺寸量测设备CD-SEM,成功实现了国产替代的突破,并赢得了市场的广泛认可。

2023年新品发布:DR-SEM r600,引领技术新潮流

进入2023年,东方晶源再推力作——DR-SEM r600。这款设备搭载了3通道电子成像技术和创新设备平台,经过客户端的量产验证,为后续产品的研发奠定了坚实的基础。经过两年的迭代研发,东方晶源最新一代的DR-SEM r655产品即将面世,它将搭载全新的高性能电子枪和光学检测模组,以及升级版的传片系统和算法系统,攻克一系列技术难关,满足国内先进制程产线的高要求。

电子束检测成像:5通道探测器,满足全方位检测需求

DR-SEM r655的电子束检测成像系统采用了5通道探测器,覆盖了更广泛的检测需求。以下是该系统的三大亮点:

  • 全方位缺陷表征:4个侧向探测器支持全角度形貌扫描,显著提升了缺陷立体成像效果,帮助工程师更精准地判定缺陷类型和成因,尤其是在浅刮伤等微小缺陷的复检成功率上有了显著提升。
  • 材料衬度解析优化:顶端探测器增强了背散射电子信号的接收能力,能够精准捕捉材料衬度差异,满足先进制程对多种应用场景的需求。
  • 高深宽比工艺兼容:配合高加速电场设计,适配高深宽比结构检测,性能与国际成熟机型相媲美。

光学检测升级:突破灵敏度极限

针对无图形晶圆缺陷复检的需求,r655通过两项核心改进实现了突破:

  • 光路优化:调整缺陷接收光路,缩小与目标缺陷尺寸的检测差距。
  • 深紫外光源系统:基于自研光路和定制开发的国产深紫外激光源,将光学检测灵敏度提升至20nm,未来性能可进一步优化。

效能跃升:产能对标国际水平

r655通过平台级升级,全面优化了晶圆吞吐效率:

  • 传输与运动控制:缩短晶圆传输时间,配合新一代电子光学系统加速缺陷抓取,处理速度接近国际一线设备。
  • 模块化扩展设计:新平台具备灵活的可拓展性,支持多个选配模组和升级需求,兼容先进制程的多样化检测需求,确保设备长期技术竞争力。

未来布局:智能化与国产化深度融合

东方晶源以“高性能优化(HPO)”为核心理念,前瞻性地整合DR-SEM与GDS-Design系统,通过智能算法提升缺陷抓取率,推动检测流程自动化。这一举措旨在通过自主创新,突破关键技术瓶颈,走出自研设备的道路,为半导体产业链自主可控提供坚实支撑。

结语

从技术攻坚到产能突破,东方晶源DR-SEM系列产品始终以务实创新的精神回应市场需求。r655的推出,标志着国产电子束检测设备在精度、效率与智能化领域迈入新阶段,为我国半导体先进制程发展注入了强劲动力。


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